的这些材料国内的晶圆厂很多都是受制于外资，不会用也不敢用国产的材料。

　　但是现在中晶微、华越电子公司、华晶科技集团公司这三大公司的自主性都是非常高，刚开始的时候主要是用海外的半导体材料，之后逐步地开始用半导体材料公司的材料来代替，这方面都是很同步的。

　　所以除了华兴半导体材料公司之外，国内也是出现了十多家能够提供可靠国产化半导体材料的公司，半导体材料的国产化程度已经达到了百分之七十多，这些国内的半导体材料公司都是活得比较滋润。

　　不过在光刻掩膜光罩这个细分领域却是因为市场场集中度高，寡头垄断严重，丰创集团、霓虹国的DPn和社toppan三家占据80%以上的市场份额，不过这个市场规模也不大，现阶段来说只有二十多亿美金的样子，所以半导体材料公司在这方面就没有发力了，而是主要跟着几家公司都是有合作。

　　杨杰也从来没有说自己要把半导体材料整个市场给吞下来的想法，这些公司在这些细分领域持续研发了这么多年了，自然是有其过人之处。

　　而且华兴集团公司现在已经掌握了半导体产业最核心的技术，自然也是有底气进行合作的。

　　而且这些公司也是十分乐意跟华兴集团公司进行合作，为华兴集团公司开发各种高阶的光刻掩膜光罩。

　　现在国内成了全世界最大的芯片生产基地，这几家光罩厂自然对兔子国国内的半导体市场十分重视，丰创集团公司还在潭州市这边建设了最高等级的光罩厂，专门为中晶微、华越电子公司、华晶集团公司、天马科技公司等公司提供高端的光罩。

　　华兴集团公司现在正在研发极紫外光光刻机，自然也是跟丰创集团公司有过接触，希望他们能够研发出极紫外光光刻掩膜的光罩。

　　极紫外光光刻机光刻的时候使用镜面反射光而不是用透镜折射光，所以采用的光掩膜版也需要改成反射型，改用覆盖在基体上的硅和钼层来制作，同时因为极紫外光光刻机因为制程工艺极高，对光掩膜版的准确度、精密度、复杂度要求比以往更高。

　　当前制作掩膜版普遍使用的可变形状电子束设备，其写入时间成为最大的挑战，解决方案之一是采用多束电子束设备，这就需要这些生产制造电子束设备的公司开发相关多束电子束产品。

　　也是因为极紫外光光源破坏性太大，就算是丰创集团公司能够提供光刻掩膜，但是华兴集团公司也必须要研发出光掩膜的保护层薄膜，提供阻隔外界污染的实体屏障，可以防止微尘或挥发气体污染光掩膜表面，减少光掩膜使用时的清洁和检验。

　　而且这些薄膜的对光源的透射率太差的话，会大大地影响到光刻机的产量，如果光刻机的每个小时的晶圆吞吐量过低的话也是杨杰不能忍受的。

　　为了达到这些设计目标，华兴集团公司还有大量的研发要去做，没有个五六年的功夫这些技术是无法成熟起来的。

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