：

　　1.最小线宽：小于

　　2.加速电压：

　　3.电子束直径：小于

　　4.套刻精度：1nm(mean+0.2σ

　　5.拼接精度：1nm(mean+0.2σ

　　6.加工晶圆尺寸：4-18英寸

　　7.描电镜分辨率：小于

　　主要特点：

　　1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；

　　2.出色的电子束偏转控制技术；

　　3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达0.0002nm；

　　4.采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002mrad；

　　5.应用领域广泛，如微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。

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　　需要成就点：300点！

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　　沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。

　　还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。

　　这个EBL01号称可以制造1nm以下的芯片，但量产成本会比较高。

　　因此，当前的情况，星海集团可以从7nm芯片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。

　　等竞争对手可以批量搞7nm芯片了，星海集团再推出5nm或3nm芯片。

　　有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28nm芯片工艺足够，也是未来十年内的主流。

　　只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片。

　　另外，沐阳打算弄一些小于1nm的芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用。

　　接下来，沐阳确认购买EBL01技术。

　　十几分钟后，沐阳把EBL01技术吸收完毕。

　　他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家。

　　买了光刻机的技术，沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备。

　　这个芯片设计软件，他就不打算自己研发了，他在芯片软件设计这一块是弱点，靠自己研究不知道得花多长时间。

　　而且，目前公司形势严峻，一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了，会对星海集团搞各种限制。

　　沐阳现在赶时间，同时还有更多更重要的事情需要他亲自处理。

　　于是，他又花了400点成就点。

　　这一晚，沐阳就花了700点成就点，还是有些心疼。

　　等吸收完新技术后，沐阳实在有些发困了，回床休息。

　　翌日，沐阳是被宋雪露吧嗒一下脸蛋睡醒的。

　　“孩子他爸，生日快乐。”

　　“谢谢，有你真好。”

　　沐阳睁开朦胧的双眼，揽过妻子的纤腰。

　　他老婆跟他同年出生，只比他小几个月。

　　系统8级时，商店有驻颜、延迟衰老

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